製品情報![]() イットリアコートチューブ CVDイットリアコート 酸化物コーティング Nanoメッシュ酸化チタン 大気開放型CVD装置 会社案内 お問合せ English Site 関連リンク ![]() |
CVDイットリアコート Y2O3:酸化イットリウム半導体製造工程でのドライエッチングやプラズマCVDプロセスでは腐食性の強いハロゲンガスを用いるため、チャンバー付近の部材に耐プラズマ性が要求されます。耐プラズマ部材を使用することにより、部材の浸食を抑制し、パーティクル発生を低減します。 時田CVDシステムズは、耐プラズマ性、耐ハロゲン性材料として注目の酸化イットリウム(Y2O3-イットリア)膜をCVD法によって成膜し、ご提供いたします。
用途
CVD法で緻密な酸化イットリウム(イットリア:Y2O3)膜を形成します。 |
![]() Y2O3膜断面SEM |
![]() CVDイットリアコート品 |
|| CVDイットリア膜不純物データ |
(PDF:718KB) |
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|| CVDイットリア膜物性データ | (PDF:719KB) |
|| CVDイットリア膜密着力試験データ | (PDF:738KB) |
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